2008年12月17日 星期三

沖片的小心得

那天,在和Q閒談之後,才總算懂得了所謂的底片特性曲線所代表的意涵為何?
每一個底片從暗部到亮部,都可以在一個標準顯影條件下畫出一條理論上是穩定的曲線。如果不討論濃度的情況下,雖然特性曲線本身就是用濃度來做縱軸的,只是如果是用實際的概念來說明,那麼可以把主要會影響到曲線的兩個要素點出,曝光以及顯影。

在曝光的部分,基本上曝光量的充足、不足或者過量會影響到的最重要的部分應該是在於暗部細節上的表現,而有在沖片的人大約都可以瞭解,當顯影的時間增加時,其實對於暗部的細節表現沒有多大的影響,其實這是很Make sense的,因為暗部本來就是曝光較少的部分,人不可能讓完全沒有曝光的感光粒子因為顯影增強而就這麼感了光的,所以,暗部的表現自然就不會受到顯影太大太多的影響。而主要是受到拍攝時曝光的支配。

在顯影的部分,顯影其實是一個由顯影劑提供電子給感光過的粒子變成金屬銀的過程,在這個過程中,因為只有感光過的乳劑會發生改變,所以當顯影時間拉長時,才會改變和影響到亮部的濃度狀態,也因此才會改變底片的曲線。於是,當顯影的時間拉長時,亮部的位置就會因此而不斷的發生變化。

於是乎,我就在這樣的討論中,總算是瞭解了在曝光時,加減EV值和之後的增減感顯影之間的關係為何,也同樣的因此而有了更多對於底片特性曲線的瞭解,這樣以後在沖片時,就有能力可以嘗試不同的曝光和顯影組合了!

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